結晶上での X 線のコヒーレントな散乱の物理現象は、たとえ低角度で発生したとしても回折と呼ばれます。たとえば、相の d 値が 31.5 A で、対応する回折が 2.80° (銅-Kα) である場合、相の結晶化度が高い場合、31.5 A のピークは依然として非常にシャープです。薄膜も生成可能X線回折フィルムの厚さと微細構造に応じて、小さな角度範囲に集中します。このような場合、サンプルの小角 X 線散乱強度は主にサンプルの回折によるものであり、角 X 線回折と呼ばれます。
超微粉末粒子にX線を照射するとコヒーレント散乱現象が発生し、低角領域でも同様に散乱現象が発生します。しかし、微粒子が生み出すコヒーレントな散乱パターンの特徴は、小角粒子の特徴とは全く異なります。X線大きな結晶面間隔または上の薄膜によって生成される回折パターン。
小角回折 一般に、非常に大きな結晶面の間隔や薄膜の厚さ、薄膜の微周期構造や周期的な穴の分布を決定するために使用されます。&注意;