放牧発生率とは、X線非常に小さな入射角 (&それ; 5°) でフィルムに露光されるため、フィルムへの侵入深さが大幅に減少します。同時に、低入射角が大きくなると、試料上の X 線照射領域が増加し、回折に関与する試料の体積が増加します。本稿では、薄膜の構造解析におけるGIDの役割を紹介します。

例：単層フィルムのGID試験

この例では、サンプルは (100) 単結晶シリコン基板上に作製された 14 nm RuO2 多結晶膜です。したがって、従来の薄膜サンプルの信号は、XRDパターンはSi単結晶の信号によってマスクされます。拡大画像では薄膜の回折ピークが確認できますが、信号は非常に微弱です。入射角0.3度におけるサンプルのGIDスペクトルを図2に示します。図にはSi単結晶基板の信号はなく、フィルム信号が明らかです。&注意;

&注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; 図1

&注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; &注意; 図2